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7th International Conference on Applied Surface SCIence
/ x. V3 B# V# F5 _: Y6 }* j- N第七届应用表面科学国际会议7 b: S& b& x5 k$ W! `# [8 o
2026年6月1日-4日| 中国，成都，成都东部美爵酒店) E" F$ c0 J3 h
作者注册/早鸟截止日期：2026年3月27日3 z8 K" V6 _& M. t
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会议注册参会链接：( v3 s, ~# ~) I# E) I+ ]
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4 [* I% Z0 i9 |( \" i6 a（请将网址复制到浏览器后访问）# W8 B; n9 N: I$ {0 ?# b
第七届应用表面科学国际会议由《应用表面科学》期刊Applied Surface Science主办，旨在为应用表面科学各领域的专家学者提供一个高效且透明的交流平台，帮助传播并分享学术成果。
+ g; Y4 `- n( X ]为期4天的ICASS大会将报告和讨论表面在化学和物理过程中的作用及应用研究，涉及催化、电化学、能源、新功能材料和纳米技术等领域，并讨论多种技术和表征方法。此外，在大会开始前一天的下午，将举办四场由Applied Surface Science期刊编辑主持的研讨会，内容涵盖表面科学的前沿问题，包括纳米摩擦学、纳米力学测试、密度泛函理论（DFT）计算，以及科研论文写作等主题。这些研讨会面向研究生和早期科研人员免费开放，旨在帮助与会者提升专业技能与学术水平。$ m) o" }3 S& c; u( W/ d2 P7 ~- U7 o
ICASS 2026 会议期间还将举办青年科学家（研究生和博士后）专题分论坛，旨在鼓励有才华的青年科学家以高效且有效的方式展示他们的研究成果，并提升他们在学术界和/或商业领域未来职业发展所需的专业素养能力。分论坛组委会将对入选该环节的报告人提供建设性反馈意见。同时，表现突出的报告人还将有机会参与ICASS 2026“最佳口头报告奖”的奖项角逐。' \" Q7 w Q, O+ m$ ]" L. Z7 q0 k
本届大会致力于为您提供一个绝佳的机会，了解应用表面科学领域内领军科研人员的最新研究成果，并与行业内和学界的同行建立联系。帮助您及时了解行业的动态，紧跟行业快速发展的步伐。
3 _' V9 T* ^& s. LICASS 2026 接收的稿件将有机会被《应用表面科学》期刊 Applied Surface Science 发行的会议相关虚拟专题收录。
) Y7 U) \( G8 \8 j作为表面学科界的重要国际会议，每届应用表面科学国际会议都汇聚多位全球顶尖的学者与专家。我们很高兴为您公布第七届应用表面科学国际会议特邀演讲嘉宾名单，期待您的参会。' k+ q" T# |$ \ L3 z
大会报告嘉宾! q6 H! F; F4 e# U8 ^6 ]
8 c5 w. W( G! R. J4 n
1 Z/ P7 f5 c, J* v6 K
Paula C. Angelomé 研究员: Y7 W3 n! f4 E0 `8 H" B* T
国家科学与技术研究委员会化学管理与INN研究中心，阿根廷
5 }* g; [" J8 i
! _( `4 O: r' ?2 k: t1 c) U3 I8 o9 ?# W6 U
Beatriz Roldan Cuenya 教授3 A! ~, E2 @' |) E( T
马普学会弗里茨·哈伯研究所，德国2 p' F1 f( j% A/ f: f4 n1 j
" P1 k6 G, d$ V- N9 Z! M# j1 |: r$ |) }
胡培君 教授) p) q- s! {/ z6 N1 t q
上海科技大学，中国
/ q( k f( Y; k0 B8 f9 a3 \
* G# B6 v8 X* f, M+ Q
) C& z8 O5 V, @8 m; o1 y# Z m7 zHan-Bo-Ram (Boram) Lee 教授
. R, `: V) t( m) Z仁川国立大学，韩国# f8 h" u0 k1 S# g8 B
) j- n1 ]" V' u4 ?" J# n8 h
! j0 v ]0 l; U0 ~( G( _8 N李灿 教授
" { ?0 N$ W+ X% |- B中国科学院大连化学物理研究所，中国
" ]% M9 i, f" V& |9 y( r4 S主题演讲嘉宾8 j1 ^) c* `7 w; m0 Y8 S
6 j# m* m1 v* P8 ^/ c9 a* L
8 l" I4 r8 \7 g% O( D8 i6 D& ZBeatriz Trindade Barrocas 教授& W5 t2 W7 [" `) M
斯本大学高等技术学院，葡萄牙' z8 }+ P7 z% ^, F
# t/ ]' s2 A _# t/ G* K% j% ~. E4 b* M, R7 N9 w
Marcela Bilek 教授
, A) Z! b% ^4 [悉尼大学，澳大利亚/ `( P3 c) l/ }" {% u: _5 X; c6 \
: U/ l% W. A3 X" y9 ^
* e0 h. p, Q' [" [+ z' T+ k/ UTore Brinck 教授
6 N2 @( D1 ^" ^, m& C瑞典皇家理工学院，瑞典
9 ` g" |8 w# H( }1 n
/ M1 r! ?+ ?% K/ b' P5 E
. v5 T A: t l- w$ I6 a: K杜轶 教授
' v2 g3 c* {. A6 S, g北京航空航天大学，中国
7 U$ C2 [: h5 t4 s2 G) H1 i" ?" U8 O
6 V9 q4 Z$ [9 e# h) t" [Michael Dürr教授- C) c( U- y1 U2 d- w
贾斯特斯·李比希大学吉森分校 (JLU)，德国
9 R: f' V- X% o3 b S- |9 F4 ~
- r/ G4 S4 B G
# P( K% E7 t/ n! L+ ]Grzegorz Greczynski 教授
9 L1 R: V- N! W2 r2 O8 ?林雪平大学，瑞典
, J; i8 F9 ?& y- j0 w
1 q) S2 k/ N+ O8 S6 `" p
( X+ S: d( K% D7 i) hYu Katayama 教授
- d R" o4 S# s& b8 a大阪大学，日本# ~1 ~9 y5 ^/ J4 F5 L( e% W
7 {$ F# f( F% w+ L. ]
/ X# @' h" w$ n3 t6 T8 d6 y2 h- A
Ewa Kowalska 教授/ n: h9 }- S+ z; C5 M9 _) L
雅盖隆大学，波兰7 P& M, b+ T" \6 w J/ e. ]
9 O0 v: T- F6 \+ t
6 a- ]: Z0 D7 f8 ~( K$ ]
Ana Percebom 教授
7 H5 l4 Q. H, {9 Q里约热内卢天主教大学，巴西- j' }% S( |5 Y) m+ R
6 l% Q7 G( d9 U2 N, n! A) \
4 X) p0 X7 d- H2 i+ p lTania Sandoval 教授6 R" ?+ q3 r" X" z. {& E
费德里科·圣玛利亚理工大学，智利# x6 M( Q- T$ ^3 }0 D
1 R# Q/ ~0 T& N& P( B5 A% Q8 U# f4 K; p, o* V. b* e
孙振宇 教授
; ~& L, {0 T; \; X& }北京化工大学，中国% _& `+ Z$ R3 c$ B2 k0 V
, T; U3 d5 Y/ p# g( n- ]
" ~& V2 e& B2 H% u% N) nMaryna Taryba 教授
6 @, r& O8 G {- k+ ]6 n/ Y) L a里斯本理工大学，葡萄牙/ g% E v5 ]+ H& w( I5 Y
9 _8 V0 k( O/ i4 {# Q9 O
9 `2 A# r# Q$ ]; k4 O+ q% o- ]Dong Wang 教授
, V) V4 g& C" i4 F& a伊尔梅瑙工业大学，德国
5 C [) w- R7 c V Y* m4 v; x# ]0 Q% G% `$ N) B
" B! @, q; N" r$ K) @4 @; ]/ e! @
Francisco Zaera 教授
/ U5 Z5 [: e4 U F! {加利福尼亚大学河滨分校，美国
4 ^% Q) G3 g7 C7 m5 h1 f" _& d$ O* o% B3 q大会议题3 v$ [8 A, `8 ~8 y$ s" j( [
# t6 ~: |9 k! t9 Q
6 R2 h" g0 c4 v3 F# r
- - a: K9 ]" u. |9 d! R. E1 Y
催化，电催化和光催化的表面科学
! D" T1 D: v/ e
# i4 ~3 P0 n/ l7 S# _
4 `$ C6 D7 R+ @* D Q表面工程和功能化
2 a' m n) ]! V9 M: ]
" u. }& r# z, R( Z* J7 d4 \
# {. |9 D1 b i0 q( d( _- v功能表面和涂层
& C( b! j% ~3 q* L8 q
/ l8 k5 p6 x D# t
5 P2 p* @: m3 j- c应用于能量转换和储存的表面科学7 y( [$ Z k9 t1 A; o4 q7 q* _
+ F# j6 K' @ v; z3 b8 J$ g0 b
- , c% U6 \' r o0 e; L8 d' K# ~0 O
表面纳米技术和设备0 n$ x& i; K& S+ \
T+ ~6 q& \. [( e" j
- d M* C9 ^# y! k( W
生物界面
7 v' S0 ~* @+ W# `! K' t G1 o, E/ b' e1 g* P- M7 L w3 B! i0 b- q; Q
- 2 S" u$ d4 {0 d; M0 n
表面和界面的电化学1 y, E9 F- E; B4 }% ^
+ G8 ^. W4 A9 ]! N
( z) w5 r+ d- m' v- h# Q% k表面表征工具的进展情况
3 [$ {5 n4 H+ r+ k) i) C% ^$ j$ Q5 e: w/ a9 g
, M% H% {5 E, s4 B6 [/ A3 r6 n( F6 F7 |环境友好型材料/ r; r) B- _# l! l
: l) A. p8 D) v# v! @4 E- 1 I+ n0 \# T. @; `2 O2 ]* B
半导体-表面和界面
3 A2 k( H5 x0 Z5 B1 j) v# z+ l* c9 K0 G# V
- ) T7 @3 I4 p( c, e) U. h& |" T
二维分层材料和组装% p8 v% n' A. q' |, @; N) U* \
- }1 g8 [: R/ @) J0 [6 V ) a1 D( u0 n9 q* y7 T. g
会议投稿仍在接收中，扫描二维码提交摘要/ Q4 g$ ?, T/ s$ z- ]$ K
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u z. Y2 [. N7 A# e& C重要截止日期
" w, @5 B h6 q' i' \. S2 _% T作者注册/早鸟截止日期：2026年3月27日
2 k+ y* o2 Z1 `( Y( e6 {& A) d5 A) t
; k1 d/ m, K* Z扫码注册参会: @. p' b, G, t2 Q& g3 w, \
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大会注册指南与费用/ U5 w$ N2 L& }; W( M
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" ]! P+ N" N" B+ n, _! X! Y U! o
" I. g& v' n- V M* K4 m& v
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- ) @1 C$ Y' c d @3 F7 N
请在完成注册时正确勾选您的注册类型（如勾选学生类型，我们可能需要您后续通过邮件提供您 的相关学生信息进行验证）
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2 o+ p8 C0 G6 g; x! h/ {- P4 G - ( j4 C7 N! f) t0 ^- }2 `
请根据您的实际需求/情况，勾选是否要购买Conference Dinner Ticket（大会晚宴券） 以及是否支付多篇摘要被接收的处理费用 （Additional Paper Fee）。
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5 `. b& M4 s- F: E$ Z 0 T* R# h) v! i) w+ h6 A) |
0 n) e/ n z$ ] v
大会主席
, p4 v$ O8 y$ g/Henrik Rudolph 教授/- B% l, w* a, f5 q% H7 v
Applied Surface Science 主编3 v Z3 @4 y( P9 R9 G8 U
/黄伟新 教授 /. X* z9 n' y" [
中国科学技术大学+ R; S9 y& J/ v$ M+ z
/邓旭 教授 // `3 J% [" i+ U5 _6 Z# Y
电子科技大学
/ z" O9 f2 a$ M( Z9 A0 L' B大会组委会% Q! v6 o( w; v h
/Maria Dinescu 教授 /) R5 B7 U5 ~! Y+ d
国家激光、等离子体与辐射物理研究所，罗马尼亚& j; g6 @- F" M4 O2 P
/Byungchan Han 教授 /
/ E! a e" _! G; o7 ]& [延世大学，韩国" ~- Q) f2 }$ u% k+ J# r, M
/Shyama Rath 教授 /+ d; y, d# a* y2 l+ e
德里大学，印度0 C+ D. {; U& a) v
/Andrew Teplyakov 教授 /* p9 |. [6 r: f" q
特拉华大学，美国$ m7 ]5 m" l7 ]7 H9 |
大会场馆
- i" i1 N7 s6 {& B
" e& S0 q9 h5 z0 J; \
0 T( ]1 b C, ~' r3 v4 z4 \+ {成都东部美爵酒店& u |8 _- \" r
地址：中国成都市东部新区，三岔街道公园大道2576号- b# v- D0 V5 S$ F# g/ ^# S) Q
支持刊物- @8 U0 V% Z4 M$ h8 T" J
3 g9 H, {1 X7 Q" @$ H$ o8 v- Y2 K4 z7 `$ N4 Z- @2 s6 W; G
Applied Surface Science
" K4 T# \/ {$ q# ^; u3 vImpact Factor：6.9
2 T! v6 [6 P; Q8 F& A% M' |# zCiteScore：13.4
# f! `, k0 W0 @# A. k4 F大会主办. ?# f9 E c$ }, j/ |
' e+ i! \! i( B8 U1 _
, j) o4 o6 e# }" E1 |9 J9 W8 _联合主办5 c4 W W) `* Z, {) H! d
中国科学技术大学化学与材料科学学院
# `8 W+ ]. A$ u" [. `3 F中国科学技术大学化学国家高层次人才培养中心
4 [. d, j9 z4 @/ ^中国科学技术大学精准智能化学全国重点实验室
1 ^8 t( L- ~/ `电子科技大学基础与前沿研究院+ C6 f( _, D+ A) Y) l
5 W/ q$ ~6 D; Q: E* c% O( J3 A
0 m! _5 A7 k3 e9 A8 q! d5 ~, ]成为大会赞助商或展商，欢迎联系：) q2 @8 F* |6 S- t6 T q
Morley Lan9 g/ z" ^4 r6 s. ~: R5 c
Sales Executive, Conferences, Elsevier* a ] M* n& q+ ~- m- {
Email: i.morley@elsevier.com
: [. l' }' ~# f) d! {Tel: +(44) 7747 541 955+ E9 e7 d9 g2 C4 m( z" A# x& e+ L$ }
林韬/ H- F* d/ l1 b
爱思唯尔（中国）期刊学术活动合作发展经理
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电话: +86 1381 0739 835, u0 s( R4 @1 Q. S9 Z V# Y, s
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发表于 2026-3-11 19:19:56