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花落半导体设备公司!荷兰硬科技融资纪录刷新 富达、淡马锡投了 ...

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发表于 2026-6-28 05:58:21 | 显示全部楼层 |阅读模式
《科创板日报》6月23日讯(编辑 宋子乔)当地时间6月22日,荷兰芯片设备制造商Nearfield Instruments(以下简称Nearfield)宣布完成3.8亿美元D轮融资(约合人民币25.74亿元),投后估值达16亿美元(约合人民币108.4亿元)。& O( Z: x. P1 c) t1 f; r/ o9 C! f
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) z% K  V  N  Z( s1 E7 s; _' x$ N) |据介绍,本轮融资由富达领投,淡马锡、卡塔尔投资局、ING(荷兰国际集团)等跟投,为荷兰有史以来规模最大的硬科技(deep-tech)融资,资金超额认购,所募资金将用于加速公司创新路线图的实施,建立全球应用卓越中心,大幅提升产能,加强全球客户支持体系,并深化与领先半导体制造商的合作研发
- X. h6 q4 \* M( T该公司投资者中,富达和卡塔尔投资局为新入局者,淡马锡早在2024年7月18日参与该公司C轮融资,荷兰政府全资持有的国家级产业开发金融机构Invest-NL(荷兰投资局),以及荷兰国家级科研机构——荷兰应用科学研究组织(TNO)旗下风投TNO Ventures等现有投资者也参与了D轮融资。$ j; x6 r1 I8 p/ m2 _$ R" u
Nearfield成立于2016年,是从TNO分拆独立的技术公司,总部位于鹿特丹。该公司专攻半导体计量设备,主营整机3D量测/检测设备,是晶圆制造前道工艺设备,旨在为半导体制造行业提供3D量测与检测解决方案。
3 G0 Q5 }+ t. |, r9 ]0 KAI应用的爆发,正倒逼半导体硬件不断逼近物理极限。随着芯片制程日益微缩、3D堆叠层数持续攀升,要实现原子尺度的精密结构把控,高精度半导体计量设备至关重要。该设备负责精准量测晶圆薄膜、沟槽、堆叠凸点等关键尺寸,检测设备用于筛查微粒、层间空洞、对位偏移等缺陷。$ k3 L+ w5 k- {/ d1 ~0 n1 g  N
面对GAA、HBM、3D NAND等复杂3D芯片架构,传统二维光学设备难以观测深层立体侧壁与内部结构,而专用3D量测检测设备可实现原子级无损三维扫描,全程管控多层堆叠工艺精度,及时规避批量报废问题,是先进3D芯片稳定良率、规模化量产的必备核心配套装备。, |7 O# i1 Z, C0 T" c
Nearfield的核心壁垒是自研多探针并行AFM整机架构,配套专属扫描与成像专利,检测效率远超传统单探针机型,能原子级无损检测GAA、HBM、3DNAND、混合键合复杂三维内层结构,填补光学量测设备短板,其是全球唯一量产线可商用的高通量3D AFM设备厂商,已通过三星头部晶圆厂量产验证并锁定长期复购订单。
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5 ~* H9 P  Y* m$ q% V; [该公司首席执行官Hamed Sadeghian表示,此轮融资的成功反映了在AI驱动的半导体创新时代,计量和检测技术的重要性日益增长。- y2 u; \8 }5 g2 Q
M&G Investments Catalyst负责人Niranjan Sirdeshpande表示,“随着全球半导体需求加速增长,以原子级精度制造芯片已成为一项战略要务。Nearfield的创新计量平台直接解决了先进芯片制造商在迈向下一代节点和3D集成架构时所面临的工艺控制挑战。”) Z# ?9 @1 l: A
Walden Catalyst Ventures的创始管理合伙人Young Sohn补充道:“Nearfield正处于两大行业变革的交汇点:AI的快速发展和向日益复杂的3D半导体架构的转型,随着半导体行业进入一个关键的新阶段,先进的计量和检测技术将成为下一代芯片创新不可或缺的推动力。”
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